EUV-литография
EUV-литография-Что это вообще такое? И как оно работает
Работы выполняемые на данном оборудование
Где чаще всего используется-а так же где применяются чипы созданные по EUV-технологии
Виды оборудования
Кинематическая схема таких оборудований
Преимущества и недостатки
Респектабельность таких оборудований
Основные выводы о технологии:
Спасибо за внимание
4.94M

Л

1. EUV-литография

EUV-ЛИТОГРАФИЯ
Выполнил Лесовой М.Д.
15.02.21

2. EUV-литография-Что это вообще такое? И как оно работает

■ Это передовая технология производства микрочипов, использующая свет с
длиной волны 13,5 нм. Она позволяет создавать транзисторы нанометрового
размера (от 7 до 2 нм), что делает возможным выпуск сверхмощных и
энергоэффективных процессоров для смартфонов, ПК, ИИ и суперкомпьютеров.
■ Процесс можно сравнить с проекционным фотоаппаратом, где вместо пленки
используется кремниевая пластина, а вместо обычного света — сверхжесткий
ультрафиолет

3. Работы выполняемые на данном оборудование

■ Генерация сверхкороткого излучения: Высокомощные лазеры нагревают
капли олова, создавая плазму, которая излучает свет с длиной волны всего 13,5
нм (экстремальный ультрафиолет)
■ Проецирование через маску (трафарет): Свет проходит через специальную
маску, на которой закодирован узор будущих транзисторов и проводников.
■ Оптическое уменьшение и фокусировка: Поскольку свет с такой длиной
волны поглощается большинством материалов, система использует комплекс
сложнейших выпуклых зеркал в вакууме. Эти зеркала многократно уменьшают и
фокусируют рисунок
■ Формирование рисунка на пластине: Сфокусированный свет падает на
кремниевую пластину, покрытую светочувствительным материалом
(фоторезистом). Излучение активирует химические реакции, вытравливая
субмикронные дорожки (до 30 нм и меньше).

4. Где чаще всего используется-а так же где применяются чипы созданные по EUV-технологии

■ EUV-литография (экстремальная ультрафиолетовая литография)
используется в производстве передовых микрочипов (полупроводников).
■ Применяются чипы в:
Мобильные устройства: процессоры для смартфонов
Высокопроизводительные вычисления: серверные чипы, процессоры для
искусственного интеллекта (ИИ) и суперкомпьютеров.
Потребительская электроника: настольные процессоры, видеокарты,
интеллектуальные системы для дома.
Автомобильная промышленность: вычислительные блоки для автопилотов и
современных систем управления.

5. Виды оборудования


Low-NA EUV
EUV
High-NA EUV
Hyper-NA

6. Кинематическая схема таких оборудований

7. Преимущества и недостатки

■ Преимущества
■ Сверхвысокое разрешение: за счет короткой длины волны, EUV
обеспечивает беспрецедентную точность, позволяя упаковывать
миллиарды транзисторов на одном квадратном миллиметре для
максимальной производительности чипов.
■ Сокращение производственных этапов: заменяет технологии
многократного прогона луча (Multi-Patterning), что сокращает общее количество
шагов создания микросхемы и ускоряет выпуск чипов.
Упрощение фотошаблонов: избавляет от необходимости применять
сложные цепочки масок для старых методов, улучшая точность
совмещения слоев.
Недостатки
■ Астрономическая стоимость: цена одного наносканера превышает ($150300) миллионов, что требует огромных капитальных затрат от заводов.
■ Сложность оборудования: системы состоят из более чем (100) тысяч
деталей, требуют атомной точности и глубокого вакуума (так как воздух поглощает
EUV-излучение)

8. Респектабельность таких оборудований

■ Респектабельность EUV-литографии (фотолитографии в
экстремальном ультрафиолете) в современной мировой
индустрии и технологической геополитике является
абсолютной и непререкаемой. Данный статус обусловлен
тем, что EUV на сегодняшний день — это единственная
коммерчески успешная технология, способная
обеспечивать производство полупроводников по самым
передовым техпроцессам (от 7 нанометров до 2 нанометров
и ниже)

9. Основные выводы о технологии:

■ Прорыв в миниатюризации: Позволяет формировать транзисторы и
проводники размером менее (5) нм и шириной линий до (30) нм, преодолевая
физические ограничения старой технологии (DUV)
■ Упрощение производства: Заменяет многошаговые процессы многократного
экспонирования (multi-patterning), что ускоряет выпуск чипов, уменьшает брак и
снижает сложность фотошаблонов.
■ Монополия на рынке: Голландская компания ASML является единственным
производителем уникальных EUV-сканеров, стоимость которых превышает ($150
- 200) млн за единицу, что делает отрасль критически зависимой от одной
цепочки поставок.

10. Спасибо за внимание

English     Русский Правила