Опыт ИПТМ в развитии электронно-лучевой литографии

1. Совещание

08.06.2023
Зеленоград, МИЭТ
Опыт ИПТМ в развитии электронно-лучевой литографии
Князев М А, Зайцев С И, Рощупкин Д В
•Концепция проекта лабораторного эл.-луч. литографа
•Аппаратно-программный комплекс НаноМейкер, кратко
•Готовность ИПТМ к проектам по созданию литографов
•Электронно-лучевая литография, круглый пучок
•Электронно-лучевая литография, пучок изменяемой формы, типа ZBA20
•Ионно-лучевая литография
•Рентгеновская литография
•Динамическая фотолитография

2.

Концепция эл-луч литографа
Колонна с электронной пушкой и
ВВ источником питания,
KYKY, Китай
Стол с лазерным интерферометром,
АО «НИЦПВ», Россия
Быстрая электроника,
управляющее ПО,
пользовательское ПО
ИПТМ/«Интерфейс Ltd », Россия

3.

Схема ЭЛ-литографа,
Вклад ИПТМ РАН/Интерфейс,ООО
ПРОЕКТ
ДЕМОЭЛ
Вакуумная камера,
Система откачки,
Контроль вакуума, термостабилизация
FE-катод
Эл. Оптика
Датчики
Бланкер
Подготовка
данных
Управление
экспонированием
(стол + э/луч),
Графический
Редактор,
Проектирование
Внеш. среда,
Архив
Круглый пучок
Разрешение <20nm
Совмещение <20nm
Пластина > 100мм
Столик,
пластина
Система врисовывания,
Снятие изображения,
Настройка
Фокусировка
Калибровка поля
НаноМейкер

4.

Задел ИПТМ по аппаратно-программному обеспечению электр.-лучевой,
ионно-лучевой и рентгеновской литографий
Состав системы
Функции
Графический Редактор,
Подсистема проектирования
*создание многоуровневых, иерархических структур, *манипулирование
структурами, копирование, вставка, вырезание,
*преобразование элементов, масштабирование, повороты, смещения,
*сохранение и чтение из архива,
*обмен данными в форматах GDSII, ACad, DXF, ASCII, TIFF и BMP ...
Подсистема подготовки
данных
"разрезание" на кадры,
*учет эффекта близости,
*учет и коррекция измеренных дисторсий оптической,
*учет дефектов (битых) пикселов
Подсистема управления
экспонированием
*обеспечение согласованного движения стола и работы источника излучения
Подсистема моделирования
*отображение структур на экране дисплея, проверка стыковки,
*волновое моделирование изображения маски на подложке
Поверочная подсистема
*контроля работы стола,
*контроль равномерности движения,
*калибровка поля экспонирования,
*измерение дисторсий оптической системы
*контроль яркости пикселей,
Подсистема снятия
изображений
*создание устройства снятия изображений
подсистема врисовывания,
настройка режима
экспонирования
*снятие изображений
*распознавание маркерных знаков,
*контроль качества изделия (нужна высокая скорость работы источника)

5.

Готовность ИПТМ к созданию литографов (через замену блоков экспонирования)
-подсистема управления экспонированием и контроля установки
-проектирование, подготовка данных, моделирование
Вакуумная камера,
Система откачки,
Контроль вакуума, термостабилизация
FE-катод
Эл. Оптика
Датчики
Бланкер
Ионно-лучевая лито
Фокусированный
ионный пучок,
Фантастическая производительность
Фотошаблоны !
Проекционная
рентгеновская лито
(система управления)
Столик,
Разрешение суб-10нм
пластина
Эл.-Луч. Лито
Изменяемая форма пучка
Высокая производительность
Подготовка
данных
Управление
экспонированием
(стол + э/луч),
Графический
Редактор,
Проектирование
Внеш. среда,
Архив
Система врисовывания,
Фотолитография с
Снятие изображения,
динамической маской
Настройка
Лабораторные исследоапния
Фокусировка
Калибровка поля
НаноМейкер