Магнетронно-лазерное осаждение диэлектрических покрытий с наноразмерными металлическими частицами Материал к лабораторному
Наночастицы в твердотельных матрицах
Поверхностный плазмонный резонанс (ППР)
Наночастицы Ag
Принцип лазерно-плазменного осаждения.
Лазер LS-2134D. Частотный двухимпульсный лазер на АИГ:Nd3 с модуляцией добротности и длинной волны 1064 нм и 532 нм.
Сканер лазерного излучения
Фотографии эрозионного факела (а – 10*-3 Па, б – 10*2 Па). Участок спектра лазерной плазмы Ti.
Управление свойствами лазерной плазмы
Управление свойствами лазерной плазмы. (ОТНОСИТЕЛЬНЫЕ ИЗМЕНЕНИЯ ИНТЕНСИВНОСТИ СПЕКТРАЛЬНЫХ ЛИНИЙ ПЛАЗМЫ)
Магнетронное осаждение
Участок спектра магнетронного разряда
Неустойчивость процессов магнетронного осаждения пленок химических соединений.
Алгоритмы оптического управления расходом реактивного газа g при осаждении пленок оксидов (например, TiO2), нитридов и др.
Системы оптического управления расходами рабочих газов
СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ РАСХОДОМ ГАЗОВ И КОНТРОЛЯ ГАЗОВОЙ СРЕДЫ PPC 1000
Технические данные системы
Главное окно программы
Окно «Спектр»
Окно «Спектр».Установка спектральных участков для управления расходом реактивного газа
Комбинированное магнетронно-лазерное осаждение
ИЗВЕСТНЫЕ ПРИМЕНЕНИЯ МАГНЕТРОННО-ЛАЗЕРНОГО ОСАЖДЕНИЯ
Влияние лазерной плазмы на магнетронный разряд. Осциллограммы тока и напряжения магнетронного разряда при однократном
Участок спектра магнетронного разряда (1), лазерной (2) и комбинированной плазмы (3). (Ar 0,5 Па, плотность мощности 5,8
Возникновение несамостоятельного магнетронного разряда в парах материала катода
РЭМ изображение поверхности пленки, полученной комбинированным осаждением TiO2 + Ti
3D АСМ изображение поверхности пленок
3D АСМ изображение поверхности пленок с царапиной Определение толщины
Оптические характеристики
3D АСМ изображения поверхностей пленки Ag, полученной лазерной эрозией (а) и пленки TiO2 + Ag , полученной комбинированным
Сравнительные оптические характеристики пленок TiO2 + Ti и TiO2 + Ag
Сравнительные оптические характеристики пленок TiO2 + Ti и TiO2 + Ag
РЭМ изображение участка поверхности пленки TiO2 + Ag на Si подложке. ______________________ Элементный состав поверхности по
Лазерное формирование коллоидных растворов наночастиц Ag
Оптические характеристики
14.35M
Категория: ФизикаФизика

Магнетронно-лазерное осаждение диэлектрических покрытий с наноразмерными металлическими частицами

1. Магнетронно-лазерное осаждение диэлектрических покрытий с наноразмерными металлическими частицами Материал к лабораторному

практикуму
.
1

2. Наночастицы в твердотельных матрицах

Наночастицы в матрицах:
- Si в SiO2
- Ge и SiGe в матрице Si1-xGexO2 (x=0-1)
- Si в Al2O3
- Ag и Au в аморфном и поликристаллическом Si,
GaAs, CdTe и CuInSe2
Применение
- светоизлучающие устройства в видимой и ИК
области
- повышение эффективности генерации фототока в
тонкоплёночных солнечных элементах
- сенсорика в химии, биологии и медицине
-Cпособы получения
- осаждение нестехиометричных слоев с
последующим отжигом
-метод ионной имплантации с последующим
отжигом
Ag и Au в Si для
тонкоплёночных солнечных
элементах
2

3. Поверхностный плазмонный резонанс (ППР)

----
++++
++++
----
Частица
металла
Воздействую
щее
поле
Под действием переменного электрического поля светового луча
электроны проводимости смещаются и, если размеры частицы меньше
длины волны излучения, то образуется диполь (поверхностный
плазмон), колеблющийся с частотой воздействующего электрического
поля.
Если частота падающего света совпадает с собственной частотой
колебаний электронов проводимости вблизи поверхности частицы, то
наблюдается резонансное поглощение и рассеяние света, называемое
ППР.
3

4. Наночастицы Ag

Наночастицы Ag могут быть использованы для модификации
традиционных и создания новых материалов, покрытий,
дезинфицирующих и моющих средств (в том числе зубных и чистящих
паст, стиральных порошков, мыла), косметики.
Коллоидное серебро является безопасным и самым мощным для
организма человека натуральным антисептиком, подавляющим более
700 видов болезнетворных микроорганизмов, среди которых
стафилококки, стрептококки, бактерии дизентерии, брюшного тифа и
др.
4

5. Принцип лазерно-плазменного осаждения.

Стадии осаждения:
1-эрозия материала мишени и образование плазмы. 2- расширение (разлет)
плазмы. 3- осаждение частиц эрозионного факела на подложку. 4- рост пленки.
Диапазон плотности мощности от 10*7 до 10*10 Вт/см2. Типичные значения
параметров плазмы для этого диапазона: температура (0,4–1,5) эВ, электронная
плотность (10*14–10*18)см-3, скорость разлета до (0,1–1) км/с.
5

6. Лазер LS-2134D. Частотный двухимпульсный лазер на АИГ:Nd3 с модуляцией добротности и длинной волны 1064 нм и 532 нм.

Параметры лазера
Энергия импульса
накачки <= 30 Дж
Энергия импульса
излучения: 1064 нм >=
200, 532 нм>= 110 мДж
Частота повторения
импульсов 1-10 Гц
Длительность импульса
(по уровню 0,5) <= 12 нс
Диаметр пучка лазерного
излучения <= 6,3 мм
Поляризация: Линейная
6

7. Сканер лазерного излучения

В секции «Moveto»
задаются
координаты
граничных условий
начала и конца
сканирования.
Границы
устанавливаются в
соответствии с
размером мишени.
7

8. Фотографии эрозионного факела (а – 10*-3 Па, б – 10*2 Па). Участок спектра лазерной плазмы Ti.

8

9. Управление свойствами лазерной плазмы

Интенсивность (отн. ед.)
1,8
1,6
1,4
1,0
0,0
TiII 308,8 нм (4,1 эВ)
TiII 368,5 нм (4,0 эВ)
TiI + TiII 350,4 нм
TiII 334,9 нм (3,7 эВ)
1,2
0,2
0,4
0,6
Задержка (мкс)
0,8
1,0
Влияние задержки между импульсами при двухимпульсном режиме генерации
9

10. Управление свойствами лазерной плазмы. (ОТНОСИТЕЛЬНЫЕ ИЗМЕНЕНИЯ ИНТЕНСИВНОСТИ СПЕКТРАЛЬНЫХ ЛИНИЙ ПЛАЗМЫ)

Спектральные
линии
(потенциал
возбуждения)
Относительная интенсивность
Давление, Па
(плотн.мощн. 3 ГВт/см2 )
0-1 10
100 105
Плотность
мощности, 109Вт/см2
( давление Ar, 1Па)
1,5 3,0 3,8
TiII (6 – 8)эВ
1
2,5 8,0 23
1
2,6 2,8
TiII (3 – 4)эВ
1
3,0 5,5 18
1
1,8 2,0
TiI (3 – 4)эВ
1
3,0 5,0 13
1
1,1 1,1
10

11. Магнетронное осаждение

Катод (M)
Анод
P=(0,1-10) Па
E
S N
П
H
M
N S
+ И
e
S N
MxRy
U=-(500-1000) В
I=(1-10) A
Ar
R
(O2, N2, CnHm)
Пленочные покрытия в
электронике и
микроэлектронике
(металлизация, контактные
структуры, ЖК-индикаторы,
диэлектрические и защитные
покрытия),
оптике (интерференционные
фильтры и зеркала,
просветление, антибликовые и
защитные покрытия),
архитектуре и строительстве
(декоративные и
теплосберегающие покрытия),
машиностроении
(упрочняющие, защитные и
трибологические покрытия).
Осаждение происходит из атомных и
молекулярных потоков
11

12.

12

13.

13

14. Участок спектра магнетронного разряда

14

15. Неустойчивость процессов магнетронного осаждения пленок химических соединений.

I, отн. ед.
1,0
M2
0
A
B
2
1
0,5
0,5
M1
3
4
M3
C
0
D
0,5
C
1,0
D
Точка
М1
есть
состояние неустойчивого
равновесия.
Отключение обратной
связи
приводит
к
самопроизвольному
переходу системы в одно
из устойчивых состояний:
в точку М2 или в точку М3.
1,0 g/gk
1, 3 и 4 –относительная интенсивность элемента материала мишени, 2 -
элемента реактивного газа для различных скоростей откачки.
15

16. Алгоритмы оптического управления расходом реактивного газа g при осаждении пленок оксидов (например, TiO2), нитридов и др.

Одноканальные алгоритмы
Двухканальные алгоритмы
IR
IM
РЕГУЛЯТОР
IM=const
gR
/
IR/IM
IM
РЕГУЛЯТОР
IR/IM=const
gR
IR
IR
РЕГУЛЯТОР
IR=const
gR
/
IAr
IR/IAr
РЕГУЛЯТОР
gR
IR/IAr=const
IM– интенсивность линии материала мишени (TiI)
IR –интенсивность элемента (линии, полосы) реактивного газа (OI)
IAr – интенсивность аргона (ArI).
16

17. Системы оптического управления расходами рабочих газов

M
Спектрометр
S100
ОД
hn
ПЛАЗМА
hn
СФ
ФП
КОМПЬЮТЕР
M
MxRy
ДД
ПРИБОР
УПРАВЛЕНИЯ
Ar
Устройство
сопряжения
R
Ar
R
(O2, N2, CnHm)
17

18. СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ РАСХОДОМ ГАЗОВ И КОНТРОЛЯ ГАЗОВОЙ СРЕДЫ PPC 1000

СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ РАСХОДОМ ГАЗОВ И КОНТРОЛЯ ГАЗОВОЙ СРЕДЫ
PPC 1000
18

19. Технические данные системы

Датчики системы: спектрометр S100 (рабочий спектральный
диапазон от 200 до 1100 нм, спектральное разрешение не хуже
1,0 нм, время регистрации спектра от 7 мс), а также
оптические датчики, вакуумметры (датчики давления), датчики
напряжения и тока.
Исполнительные
устройства:
натекатели,
клапана,
управляющие входы источников питания.
Программа компьютера системы позволяет:
реализовать одно- и многоканальные алгоритмы оптического
управления;
выводить спектр излучения на экран монитора, формировать
управляющие, контрольные и др. сигналы путем выбора
участков спектра;
контролировать наличие примесей (воздуха, паров масла,
паров воды) с чувствительностью 10-4 - 10-5 Па.
19

20. Главное окно программы

20

21. Окно «Спектр»

21

22. Окно «Спектр».Установка спектральных участков для управления расходом реактивного газа

22

23. Комбинированное магнетронно-лазерное осаждение

Расширить возможности вакуумных технологий
можно путем их совмещения.
Совмещение
магнетронного
распыления
и
эрозионного
лазерного
осаждения
это
формирование покрытий одновременно с помощью
двух плазменных потоков, которые существенно
отличаются:
по энергетике и плотности частиц,
по временным характеристикам воздействия на
подложку,
по возможности осаждения покрытий с нано- и
микроразмерными включениями.
23

24. ИЗВЕСТНЫЕ ПРИМЕНЕНИЯ МАГНЕТРОННО-ЛАЗЕРНОГО ОСАЖДЕНИЯ

металлокерамические структуры типа TiTixCy,
пленки
SiCx,
TiC,
TiCN,
алмазоподобные углеродные пленки.
Voevodin A.A., Hu J.J., Fitz T.A., Zabinski J.S. //
Surf. Coat. Technol. – 2001. – 146-147. – P.351.
Voevodin A.A., Fitz T.A., Hu J.J., Zabinski J.S. //
J. Vac. Sci. Technol. A. – 2002. – 20. – P.1434.
Jones J.G., Voevodin A.A. // Surf. Coat. Technol.
– 2004. – 184. – P.1.
Jelinek M., Kocourek T., Zemek J., Novotný M.,
Kadlec J. // Appl. Phys. A. – 2008. – 93. – P.633.
Нанокомпозитные покрытия YSZ (ZrO2:Y2O3)
с Ag и Mo для улучшения механических
свойств.
Muratore C., Voevodin A.A. // Surf. Coat. Technol.
– 2005. – 200 – P.1549- 1554.
24

25.

Методика комбинированного осаждения
металлических наночастиц в матрице TiO2
12
- Геометрия : X = 40, Y = 70 мм, φ =
4
10
2
1
5
РГ
X
10
3
Y
9
6
8
Ar
25о.
- Магнетрон 160 Вт, катод – 5 см.
- Двухимпульсный режим частотой
2 Гц и задержкой импульсов 0,4 мкс.
- W на мишени 9х10*8 Вт/см2.
- Область сканирования 1х1 см2.
- Давление газовой смеси 0,8 Па.
- Время осаждения 27 мин.
- Расход О2 управлялся по
алгоритму (IО / ITi) =const.
7
11
Схема реализации методики:
1 – подложка, 2 – лазерная мишень, 3 – магнетрон, 5 и 6 – лазерная и магнетронная
плазма, 7 – лазерный луч, 8 и 9 – линза и устройство сканирования, 10 – натекатели
аргона и кислорода, 11 – спектрометр системы управления расходом кислорода
25

26. Влияние лазерной плазмы на магнетронный разряд. Осциллограммы тока и напряжения магнетронного разряда при однократном

воздействии лазерного излучения (а) и в частотном режиме генерации (б).
( Частота 5 Гц, W=3 ГВт/см2 )
J, А
а
2
1
0
10
20
30
40
t, мкс
30
40
t, мкс
-200
U, В
J, А
б
1
0
10
20
-200
-400
U, В
26

27. Участок спектра магнетронного разряда (1), лазерной (2) и комбинированной плазмы (3). (Ar 0,5 Па, плотность мощности 5,8

ГВт/см2).
Iкомб./Iлаз.+Iмагн.:
Ar (2 – 4), TiI(1,5 – 2,5), TiII(1,2 – 1,6)
27

28. Возникновение несамостоятельного магнетронного разряда в парах материала катода

Осциллограммы тока (1) и напряжения (2) магнетрона, свечения лазерной
плазмы (3)
при воздействии на катод магнетрона лазерного импульса
2
5,2 ГВт/см . Остаточная атмосфера, p = 0,001 Па.
Напряжение и ток разряда соответствуют давлению аргона 0,5 Па.
28

29. РЭМ изображение поверхности пленки, полученной комбинированным осаждением TiO2 + Ti

Средняя плотность частиц размером (100 – 300)нм - 25 частиц на 100 мкм2
Средняя плотность частиц размером (1 – 3)мкм - 6 частиц на 100 мкм2
Толщина 200 – 250 нм. Скорость осаждения 7,5–9,2 нм/мин
29

30.

6
Si
Интенсивность, отн. ед.
5
4
O
Ti
3
2
C
1
Ti
Ar
0
0
1
2
3
4
5
6
Энергия, кэВ
Рентгеновский спектр структуры TiO2 + Ti на Si подложке
30

31. 3D АСМ изображение поверхности пленок

пленка TiO2 + Ti
пленка TiO2
пленка Ti
3D АСМ изображение поверхности пленок
31

32.

нм
мкм
Рельеф поверхности пленки
TiO2 + Ti по линии на изображении
АСМ изображение поверхности
пленки TiO2 + Ti
Ti - Размеры частиц составляют от 20 до 200 нм с поверхностной плотностью около
90–120 частиц на 1 мкм2. Максимальная концентрация металлических частиц
соответствует размерам в интервале 50–100 нм. Толщина 50 - 60 нм, скорость осаждения
2,0 нм/мин
TiО2 + Ti - преобладающий размер частиц в интервале 50-150 нм с поверхностной
плотностью 10-15 мкм2. Максимум распределения по размерам 50-80 нм. Толщина 230 –
260 нм. Скорость осаждения 9,6 нм/мин.
32

33. 3D АСМ изображение поверхности пленок с царапиной Определение толщины

33

34. Оптические характеристики

1 - коэффициент отражения
2 - коэффициент пропускания
3 - коэффициент поглощения
%
TiO2
Ti
%
нм
TiO2+Ti
%
34

35. 3D АСМ изображения поверхностей пленки Ag, полученной лазерной эрозией (а) и пленки TiO2 + Ag , полученной комбинированным

способом
(б). Подложка Si
35

36. Сравнительные оптические характеристики пленок TiO2 + Ti и TiO2 + Ag

Коэффициенты пропускания и поглощения, %
Сравнительные оптические характеристики пленок
TiO2 + Ti и TiO2 + Ag
2
80
3
60
3
1
40
2
20
4
4
Спектры
пропускания
(1) и
поглощения
(2) для пленки
TiO2 + Ag.
Спектры
пропускания
(3) и
поглощения
(4) для пленки
TiO2 + Ti.
1
0
400
500
600
700
800
900
1000
Длина волны, нм
36

37. Сравнительные оптические характеристики пленок TiO2 + Ti и TiO2 + Ag

Коэффициенты пропускания и поглощения, %
Сравнительные оптические характеристики пленок
TiO2 + Ti и TiO2 + Ag
2
80
3
60
3
1
40
2
20
4
4
Спектры
пропускания
(1) и
поглощения
(2) для пленки
TiO2 + Ag.
Спектры
пропускания
(3) и
поглощения
(4) для пленки
TiO2 + Ti.
1
0
400
500
600
700
800
900
1000
Длина волны, нм
37

38. РЭМ изображение участка поверхности пленки TiO2 + Ag на Si подложке. ______________________ Элементный состав поверхности по

линии на
РЭМ изображении.
______ Si
______ Ag
______ O
______ Ti
Состав (в Вес.%)
определен методом
рентгеноспектрального
микроанализа
38

39. Лазерное формирование коллоидных растворов наночастиц Ag

5
–лазерное
излучение;
2 –зеркало;
3 –
фокусирующая
линза;
4– кювета с
жидкой средой
внедрения;
5металлическая
мишень (Ag);
6- эрозионный
поток материала
мишени
1
6
4
3
1
2
39

40.

ФИНИШ
40

41. Оптические характеристики

41
English     Русский Правила