Технология формирования пленок оксида свинца

1.

2.

Объект исследования
Технология формирования пленок
оксида свинца:
Метод нанесения тонких пленок оксида свинца:
ВЧ-магнетронное распыление в атмосфере аргонкислород.
В качестве мишени использовался порошок PbO2 (ЧДА),
распределенный равномерным слоем по всей
поверхности магнетрона.
1.
2.
3.
4.
5.
На окисленную поверхность кремния
наносится тонкий адгезионный слой Ti
толщиной ~ 30 нм.
Напыление нижнего электрода (Pt ~ 150 нм).
Осаждение тонкой пленки PbO (0,2 - 1 мкм).
Высокотемпературный отжиг структур в
кислородосодержащей
среде
при
температурах 400 и 580 °С.
Нанесение Pt электродов методом ионноплазменного осаждения.
подслой Ti
Si - подложка
нижний электрод Pt
SiO2
Si - подложка
PbOх
Si - подложка
верхние электроды Pt
PbOх
Si - подложка
Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет
им. Ульянова (Ленина) «ЛЭТИ»
8